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半導體廢氣處理工藝及設備有哪些


  探討半導體廢氣處理方法,告訴你半導體廢氣處理工藝及設備有哪些。
  半導體廢氣處理是半導體行業(yè)必不可少的重要環(huán)節(jié),它是指將半導體工業(yè)廢氣中的有害物質進行清除,以達到環(huán)保要求的過程。處理半導體廢氣的要求主要要求如下:

半導體廢氣處理裝置

(1)廢氣中有害物質的濃度必須低于環(huán)保標準;
(2)廢氣中的有害物質種類必須少于現(xiàn)有的環(huán)保標準;
(3)廢氣中有害物質的實際濃度必須低于環(huán)保標準。
  常用的半導體廢氣處理方法主要有:
(1)過濾法:過濾法通常是指將廢氣中的有害物質通過過濾器濾除,其原理是將廢氣中的有害物質過濾掉;
(2)吸附法:吸附法通常是指將廢氣中的有害物質通過吸附劑吸附,其原理是將廢氣中的有害物質與吸附劑結合;
(3)催化法:催化法通常是指將廢氣中的有害物質通過催化劑催化,其原理是將廢氣中的有害物質與催化劑反應,使其轉化為無害的物質;
(4)光催化法:光催化法通常是指將廢氣中的有害物質通過光催化劑催化,其原理是將廢氣中的有害物質與光催化劑反應,使其轉化為無害的物質;
(5)脫附法:脫附法通常是指將廢氣中的有害物質通過脫附劑脫附,其原理是將廢氣中的有害物質與脫附劑結合,使其脫附出來。
  半導體廢氣處理設備主要有:
(1)過濾器:過濾器是用來過濾廢氣中有害物質的設備;
(2)吸附塔:吸附塔是用來將廢氣中的有害物質吸附的設備;
(3)催化器:催化器是用來將廢氣中的有害物質催化的設備;
(4)光催化器:光催化器是用來將廢氣中的有害物質光催化的設備;
(5)脫附塔:脫附塔是用來將廢氣中的有害物質脫附的設備。
  以上就是有關半導體工藝廢氣處理的基本原理、處理要求、常用處理方法及處理設備等內容,有效的半導體廢氣處理有助于提升半導體行業(yè)的環(huán)保水平,保護環(huán)境。

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